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ATD1000无掩膜直写光刻设备 buy in Hefei
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ATD1000无掩膜直写光刻设备

ATD1000无掩膜直写光刻设备

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China, Hefei
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Description

ATD1000无掩膜直写光刻设备基于先进的第二代光刻直写技术, 通过空间光调制器成像技术实现直写光刻。该产品采用高功率LED(λ:405nm)光源和全自动对焦、对准技术,可应用于大规模IC 150nm工艺节点用掩膜版制作、微纳加工、MEMSLED、生物芯片等。
Item Unit ATD1000
1 光源 [N/A] LED
2 工作波长 [nm] 405±10
3 可支持基底 [Inch] 2"、4"、6" 或规则形状的基底, 包括 Si、SiN、GaAs、InP、LiNbO3、SiC 等透明、半透明、不透明基底
4 能量控制精度 [N/A] ±1
5 最小线宽 [um] 0.65
6 线宽均匀性 [3σ,um] 0.1
7 套刻精度 [mean+3σ,um] 0.6
9 拼接误差 [3σ,um] 0.2
10 产能 [mm2/min] 32.7
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ATD1000无掩膜直写光刻设备
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