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ATD1000无掩膜直写光刻设备基于先进的第二代光刻直写技术, 通过空间光调制器成像技术实现直写光刻。该产品采用高功率LED(λ:405nm)光源和全自动对焦、对准技术,可应用于大规模IC 150nm工艺节点用掩膜版制作、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等。 Item Unit ATD1000 1  更多

ATD2000P无掩膜直写光刻设备基于先进的第二代光刻直写技术, 通过空间光调制器扫描技术实现直写光刻。该产品采用高功率半导体激光(λ:405nm)光源和全自动对焦、对准技术,可应用于大规模IC 150nm工艺节点用掩膜版制作、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等。 Item Unit ATD2000P 1  更多
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广东

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河北

ATD2000P无掩膜直写光刻设备基于先进的第二代光刻直写技术, 通过空间光调制器扫描技术实现直写光刻。该产品采用高功率半导体激光(λ:405nm)光源和全自动对焦、对准技术,可应用于大规模IC 150nm工艺节点用掩膜版制作、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等。 Item Unit ATD2000P 1  更多

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